Научный семинар, посвященный EUV-литографии, прошел в кампусе МГУ в Сарове

Научный семинар, посвященный EUV-литографии, прошел в кампусе МГУ в Сарове. Об этом сообщили в Национальном центре физики и математики. Как рассказал заведующий отделом многослойной рентгеновской оптики Института физики микроструктур (ИФМ) РАН Николай Чхало, в России существуют критические технологии, позволяющие разрабатывать и производить литографическое оборудование. Например, сверхточная рентгеновская оптика (аберрации ≤1 нм), экспериментальные образцы источников рентгеновского излучения и масок, прототип микроскопа для масок в EUV-диапазоне. Также ИФМ предложил проект...