Intel установила первый EUV-сканер для производства микросхем на заводе Fab 34 в Ирландии

Компания Intel объявила об успешной доставке на строящийся в Ирландии новый завод для производства микросхем - фабрики Fab 34 - первого EUV-сканера для фотолитографии в глубоком ультрафиолете. Эта система фотопечати полупроводников следующего поколения, которая использует свет экстремального ультрафиолетового диапазона с длиной волны около 13,5 нм. В качестве мощных источников света в EUV-диапазоне используются синхротроны или плазма, разогреваемые лазерным импульсом или электрическим разрядом. Операция по доставке нового оборудования была осуществлена на прошлой неделе. Литографический...