В Москве создали уникальное оборудование для микросхем

Компания-резидент особой экономической зоны (ОЭЗ) "Технополис Москва" создала первый в России фотолитограф, заявил мэр Москвы Сергей Собянин.

Речь идет о фотолитографе с разрешением 350 нанометров, отметил Собянин в Telegram-канале.

"В мире меньше десяти стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе и Россия. Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства", – подчеркнул Собянин.

Российский фотолитограф создан в сотрудничестве с белорусским заводом. Оборудование существенно отличается от зарубежных образцов.

"Впервые в качестве излучения использовали не ртутную лампу, а твердотельный лазер – мощный и энергоэффективный, с высокой долговечностью и более узким спектром", – пояснил Собянин.

На фотолитограф уже появился заказчик.

Между тем ученые готовят к выпуску фотолитограф с разрешением 130 нанометров. Работу намерены завершить в 2026 году.

В Новосибирске начали разработку оборудования для производства микросхем.

Российская компания "Микрон" запустила в прошлом году две линии по встройке микросхем в пластиковые корпуса и одну линию по выпуску чип-модулей, используемых в банковских картах, электронных документах и сим-картах.