В Москве создали уникальное оборудование для микросхем

Москва. 22 марта. INTERFAX.RU - Мэр Москвы Сергей Собянин сообщил, что компания-резидент ОЭЗ "Технополис Москва" создала первый в РФ фотолитограф с разрешением 350 нанометров. "В мире меньше 10 стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе - Россия. Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства", - написал он в своем телеграм-канале в субботу. Мэр отметил, что российский фотолитограф создан в партнерстве с белорусским заводом. Также отечественная установка...