Студенты Южного федерального университета приняли участие в карьерном образовательном интенсиве, прослушали научно-популярные лекции о мегапроектах технологического суверенитета в области микроэлектроники, приняли участие в круглом столе и тематическом квизе.
В Передовой инженерной школе Южного федерального университета состоялась встреча представителей АО «Научно-исследовательский институт молекулярной электроники» со студентами и выпускниками Школы по направлениям в области микро- и наноэлектроники, нанотехнологий и наноматериалов, связи и радиотехники.
АО «НИИМЭ» – ведущий российский научно-исследовательский центр по проведению научно-технологических исследований в области микро- и наноэлектроники, разработке и производству полупроводниковых изделий. В настоящее время в НИИМЭ работает более 500 специалистов-разработчиков высокой квалификации. В этом году институт отмечает 60 лет с момента создания. В рамках празднования юбилея запланированы научно-просветительские мероприятия, где специалисты НИИМЭ в разных вузах и городах России читают лекции по профильной тематике.
Так, в первый день перед студентами ПИШ ЮФУ выступил начальник лаборатории исследования и испытания материалов АО «НИИМЭ» Антон Шишлянников, который рассказал о развитии полупроводников и раскрыл секреты разработки технологических процессов фотолитографии в производстве субмикронных ИМС.
«Фотолитография известна с давних времен. Сначала это были оттиски, создавались печати. Литография на протяжении десятилетий выступала своеобразным локомотивом, который определял развитие всей микроэлектронной области. Именно с помощью литографии формируются размеры структур, которые в дальнейшем превращаются в конечные электронные элементы на интегральной схеме.
В НИИМЭ мы занимаемся литографическими материалами, фоторезистами, антиотражающими покрытиями, проявителями. В конце 2022 года у нас был успешно сдан госконтракт, где заказчиком выступалоМинистерство промышленности и торговли РФ, по разработке антиотражающего покрытия, которое используется в производстве на длинах волн 193 нм.
Это была совместная работа нескольких организаций. На представленных снимках с электронного микроскопа вы можете видеть, как выглядели подобные структуры с использованием иностранного антиотражающего покрытия и как – с применением разработанного нами. Наши контрагенты-химики смогли расшифровать иностранный аналог чуть ли не на 99,9% и создать отечественный вариант антиотражающего покрытия», – рассказал Антон Шишлянников.
Во второй день с докладом выступил Александр Резник. Научный сотрудник лаборатории математического моделирования технологических процессов АО «НИИМЭ» погрузил слушателей в мир технологий микроэлектроники, энергонезависимой памяти и квантово-химического моделирования. По окончании лекционной части для обучающихся была проведена викторина, по результатам которой набравшие наибольшее количество баллов получили брендированные призы от НИИМЭ.
Также сотрудники научно-исследовательского института пригласили студентов ПИШ ЮФУ к участию во Всероссийском форуме «Микроэлектроника», который пройдёт в 2024 году уже в десятый раз, и в школе молодых учёных. Площадка в Сириусе даёт возможность не только заслушать доклады представителей экспертного сообщества, но и принять участие в обсуждениях, пообщаться с широким кругом специалистов в сфере микроэлектроники и смежных областей.
«Лекции, как выпускнику ПИШ, определяющемуся с будущим местом работы, мне понравились. Сотрудники НИИМЭ рассказали много нового, что можно применять на практике. Появилось ещё большее желание развиваться дальше: по окончании лекции подала заявку на анонсированный форум.
Думаю, подобные мероприятия стоит проводить чаще. Классно, когда специалисты из Москвы, Санкт-Петербурга, других регионов России приезжают к нам, рассказывают о себе, про возможные карьерные траектории, делятся своими инновационными идеями и методиками работы», – отметила Мария Полывянова, студентка 4 курса дивизиона «Электроника» ПИШ ЮФУ.
В двухдневную программу мероприятия вошёл и круглый стол. На нём обсудили широкий круг вопросов, касающихся реализации совместных НИОКР по направлению мегапроектов технологического суверенитета в области микроэлектроники и перспективной ЭКБ; трудоустройства выпускников ПИШ; сотрудничества в сфере практик как для обучающихся, так и для молодых специалистов ЮФУ на базе АО «НИИМЭ» по направлениям подготовки инженеров в области проектирования, конструирования и технологии ЭКБ и СВЧ-электроники; организации стажировок профессорско-преподавательского состава ЮФУ в АО «НИИМЭ»; сотрудничества в области тестирования на базе ЮФУ резистов для электронно-лучевой литографии;разработки компетентностного профиля и сетевой образовательной программы подготовки инженеров-технологов на базе ЮФУ и базовой кафедры НИИМЭ.
По итогам встречи был составлен протокол по вопросам сотрудничества Южного федерального университета с АО «НИИМЭ» в сфере практик и стажировок студентов, карьерного развития в отрасли микроэлектроники и повышения квалификации преподавателей.
Автор текста: Тимур Пацюк, ред. Молоткова О.А.