9-14 октября 2023 года в Парке науки и искусства «Сириус» состоялся IX форум «Микроэлектроника 2023», в котором принял участие со стендовым докладом заведующий лабораторией «Технологии материалов и изделий электронной техники» НЦМУ «Передовые цифровые технологии» СПбПУ Артем Осипов.
Российский форум «Микроэлектроника» – ключевое информационное событие года в мире электронных технологий. Организаторы форума – АО «НИИМЭ» и АО «НИИМА «Прогресс» при поддержке Министерства промышленности и торговли Российской Федерации, Министерства науки и высшего образования Российской Федерации.
Цель мероприятия – комплексно рассмотреть актуальные вопросы разработки, производства и применения отечественной электронной компонентной базы и высокоинтегрированных электронных модулей; содействовать развитию отечественной микроэлектроники, представить разработки и возможности современных технологий.
В форуме «Микроэлектроника-2023» приняли участие более 800 организаций и более 2 400 специалистов.
В рамках мероприятия выступил Министра промышленности и торговли Российской Федерации Дениса Валентиновича Мантурова, который отметил:
- «На развитие сферы электронного машиностроения в бюджете выделены большие ресурсы – свыше 240 млрд рублей до 2030 года. Мы уже начали 15 проектов по разработке высокотехнологичного оборудования, и ещё 20 пойдут в работу до конца года. Среди них – разработки серийного оборудования безмасковой лазерной и электронно-лучевой литографии, а также сложной технологии ионной имплантации.
- Отмечу, что уже в следующем году мы рассчитываем получить наш литограф для топологии 350 нанометров. А к 2026 году – опытный образец литографа на 130 нанометров».
Отдельно Денис Валентинович отметил разработки в электронном машиностроении.
ФОТО: телеграм-канал форума «Микроэлектроника-2023»
Далее в ходе
- пленарного заседания «Развитие отечественного электронного машиностроения в новых экономических условиях: от дорожной карты к долгосрочной стратегии»
участники обсудили тенденции, характеризующие российский рынок микроэлектроники:
- 70% технологического маршрута изготовления электронной компонентной базы (ЭКБ) должно выполняться на отечественном оборудовании;
- существует острая потребность в подготовке новых кадров, особенно в отрасли электронного машиностроения;
- необходимо создание отечественного оборудования для ионной имплантации, а также для литографии в наноразмерном диапазоне (350, 130 и 14 нм).
- существует большой запрос у предприятий, занимающихся мелкосерийным производством ЭКБ, на доступное литографическое оборудование с топологическими нормами 350-500 нм.
Также в рамках форума работала выставка «Виртуальная среда микроэлектроники», в которой приняли участие 126 компаний-экспонентов.
12-13 октября заведующий лабораторией «Технологии материалов и изделий электронной техники» НЦМУ СПбПУ Артем Осипов выступил на стендовой сессии с докладом на тему
- «Создание технологического комплекса для полировки и формирования микро- и наноструктур различных материалах электронной техники» и продемонстрировал образец технологического комплекса.
Докладчик представил разработку, отметив, что с помощью технологического комплекса можно создавать упорядоченные наноструктуры, на основе которых возможно изготовление ряда перспективных полупроводниковых приборов.
Комплекс состоит из двух частей. Первая часть – образец специализированной установки формирования упорядоченных наноструктур методом Ленгмюра-Блоджетт, позволяющий сформировать упорядоченный комплекс поверхностных структур круглой, треугольной или шестигранной формы размерами от 100 нм до нескольких микрометров. Второй элемент комплекса – образец специализированной установки плазмохимического травления кремния.
Конечно, данный метод не позволяет формировать топологию изделий микроэлектронной компонентной базы и не является прямой альтернативой таких методов как электроннолучевая, проекционная и рентгеновская литография, однако для ряда перспективных приборных применений может занять свою нишу.
Для работы установки формирования упорядоченных структур данным методом специалисты НЦМУ СПбПУ также разработали специальное программное обеспечение (ПО). Технологический процесс полностью автоматизирован, в настоящее время управляющее ПО дополняют системой обратной связи для снижения человеческого фактора при эксплуатации.
Вторым этапом создания наноструктур является процесс так называемого плазмохимического травления по созданному на первом шаге рисунку. Кроме формирования наноструктур, на этой установке можно создавать глубокие направленные кремниевые структуры, которые могут использоваться в качестве основы для создания микроэлектромеханических систем (направленные щелевые структуры для гироскопов и акселерометров), а также чувствительных элементов датчиков физических величин (мембраны для датчиков давления) и др.
- «Российский форум «Микроэлектроника» – самое масштабное мероприятие микроэлектронной отрасли в стране, который позволяет объединить на своей площадке как научные кадры, так и представителей реального сектора экономики для решения стратегических задач Российской Федерации в области микроэлектроники.
- Участие в мероприятии такого масштаба является почетным для НЦМУ СПбПУ «Передовые цифровые технологии» и приносит реальные практические результаты»,
– прокомментировал значимость мероприятия заведующий лабораторией «Технологии материалов и изделий электронной техники» НЦМУ СПбПУ Артем Осипов.
По итогам форума «Микроэлектроника-2023» установлены контакты с представителями ключевых предприятий микроэлектронной промышленности России и определены дальнейшие планы совместной работы.